Manufacturing Issues of BEOL CMOS-MEMS Devices
In this paper we present a comprehensive report on the issues found during the manufacturing of high-yield CMOS-MEMS sensors based on vapor-phase hydrogen fluoride (vapor-<inline-formula> <tex-math notation="LaTeX">$HF$ </tex-math></inline-formula>) oxide etching. During the study we have identified...
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| Principais autores: | , , , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado em: |
IEEE
2021-01-01
|
| coleção: | IEEE Access |
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://ieeexplore.ieee.org/document/9447709/ |
| Tags: |
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