OBTENCIÓN DE PELÍCULAS DELGADAS DE SILICIO POLICRISTALINO A PARTIR DE CLOROSILANOS EN REACTORES DE CVD

En este trabajo se presentan resultados obtenidos en la deposición y caracterización estructural de láminas delgadas de silicio policristalino. Como método de deposición se usó el CVD térmico a partir de triclorosilano, y como sustrato un vidrio comercial de alta temperatura. Se logró la deposición...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Hlavní autoři:	A. G. Benvenuto, J. A. Schmidt, R. H. Buitrago
Médium:	Artigo
Jazyk:	Espanhol
Vydáno:	CEILAP-UNIDEF-CONICET-CITEDEF 2010-10-01
Edice:	Anales (Asociación Física Argentina)
On-line přístup:	https://anales.fisica.org.ar/index.php/analesafa/article/view/436
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!