OBTENCIÓN DE PELÍCULAS DELGADAS DE SILICIO POLICRISTALINO A PARTIR DE CLOROSILANOS EN REACTORES DE CVD
En este trabajo se presentan resultados obtenidos en la deposición y caracterización estructural de láminas delgadas de silicio policristalino. Como método de deposición se usó el CVD térmico a partir de triclorosilano, y como sustrato un vidrio comercial de alta temperatura. Se logró la deposición...
Gardado en:
| Principais autores: | , , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Espanhol |
| Publicado: |
CEILAP-UNIDEF-CONICET-CITEDEF
2010-10-01
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| Series: | Anales (Asociación Física Argentina) |
| Acceso en liña: | https://anales.fisica.org.ar/index.php/analesafa/article/view/436 |
| Tags: |
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