kod QR

Epitaxial growth of silicene on ultra-thin Ag(111) films

Epitaxial growth of silicene on atomically flat ultra-thin Ag(111) films was investigated using scanning tunneling microscopy. The Ag films were prepared by low-temperature deposition of Ag on Si substrates, followed by soft annealing at room temperature. Patchy 4 × 4, √13 × √13, √7 × √7, and 2√3 × ...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Junki Sone, Tsuyoshi Yamagami, Yuki Aoki, Kan Nakatsuji, Hiroyuki Hirayama
Format: Artigo
Język:Inglês
Wydane: IOP Publishing 2014-01-01
Seria:New Journal of Physics
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://doi.org/10.1088/1367-2630/16/9/095004
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!