QR կոդ

High Performance On-Chip Energy Storage Capacitors with Plasma-Enhanced Atomic Layer-Deposited Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub>/Al-Doped Hf<sub>0.25</sub>Zr<sub>0.75</sub>O<sub>2</sub> Nanofilms as Dielectrics

Concurrently achieving high energy storage density (ESD) and efficiency has always been a big challenge for electrostatic energy storage capacitors. In this study, we successfully fabricate high-performance energy storage capacitors by using antiferroelectric (AFE) Al-doped Hf<sub>0.25</sub>Zr<sub>0...

Ամբողջական նկարագրություն

Պահպանված է:
Հիմնական հեղինակներ: Yuli He, Guang Zheng, Bao Zhu, Xiaohan Wu, Wen-Jun Liu, David Wei Zhang, Shi-Jin Ding
Ձևաչափ: Artigo
Լեզու:Inglês
Հրապարակվել է: MDPI AG 2023-05-01
Շարք:Nanomaterials
Խորագրեր:
Al-doped Hf<sub>0.25</sub>Zr<sub>0.75</sub>O<sub>2</sub>
antiferroelectric
energy storage density
energy storage efficiency
Առցանց հասանելիություն:https://www.mdpi.com/2079-4991/13/11/1765
Ցուցիչներ: Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!

Նմանատիպ նյութեր