Monitoring Surface Stoichiometry, Work Function and Valance Band of Tungsten Oxide (WO₃), Molybdenum Oxide (MoO₃) and Tin Oxide (SnO₂) Thin Films as a Function of Temperature and Oxygen Partial Pressure with Advanced Surface Sensitive Techniques for Chemical Sensing Applications

Atomic layer deposition (ALD) is a chemical vapor deposition (CVD) deposition method in<br />which high-quality [...]

Podrobná bibliografie

Hlavní autoři:	Engin Ciftyurek, Martin Wilken, David Zanders, Lukas Mai, Anjana Devi, Klaus D. Schierbaum
Médium:	Artigo
Jazyk:	Inglês
Vydáno:	MDPI AG 2019-06-01
Edice:	Proceedings
Témata:	n/a
On-line přístup:	https://www.mdpi.com/2504-3900/14/1/27
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!