Temperature dependent optical constants for SiO2 film on Si substrate by ellipsometry
In situ ellipsometry measurements in the spectra range from 246 to 1000 nm were performed on a SiO _2 /Si system at temperatures varying from 25 to 600 °C. By using Cauchy dispersion model to describe SiO _2 layer and B-spline to parameterize Si substrate, the temperature dependent optical constants...
Պահպանված է:
| Հիմնական հեղինակներ: | , , , , , |
|---|---|
| Ձևաչափ: | Artigo |
| Լեզու: | Inglês |
| Հրապարակվել է: |
IOP Publishing
2017-01-01
|
| Շարք: | Materials Research Express |
| Խորագրեր: | |
| Առցանց հասանելիություն: | https://doi.org/10.1088/2053-1591/aa7d17 |
| Ցուցիչներ: |
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
|