Unveiling Ruthenium(II) Diazadienyls for Gas Phase Deposition Processes: Low Resistivity Ru Thin Films and Their Performance in the Acidic Oxygen Evolution Reaction

Abstract Two novel ruthenium complexes belonging to the Ru(II)(DAD)(Cym) (DAD = diazadienyl) (Cym = cymene) compound family are introduced as promising precursors. Their chemical nature, potential for chemical vapor deposition (CVD), and possibly atomic layer deposition (ALD) are demonstrated. The d...

সম্পূর্ণ বিবরণ

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন

প্রধান লেখক:	David Zanders, Jorit Obenlüneschloß, Jan‐Lucas Wree, Julia Jagosz, Parmish Kaur, Nils Boysen, Detlef Rogalla, Aleksander Kostka, Claudia Bock, Denis Öhl, Michael Gock, Wolfgang Schuhmann, Anjana Devi
বিন্যাস:	Artigo
ভাষা:	Inglês
প্রকাশিত:	Wiley-VCH 2022-12-01
মালা:	Advanced Materials Interfaces
বিষয়গুলি:	chemical vapor deposition (CVD) oxygen evolution reaction precursors ruthenium thin films resistivity
অনলাইন ব্যবহার করুন:	https://doi.org/10.1002/admi.202201709
ট্যাগগুলো:	ট্যাগ যুক্ত করুন কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!