Optimization of the Cathode Arc Plasma Deposition Processing Parameters of ZnO Film Using the Grey-Relational Taguchi Method
We deposited undoped ZnO films on the glass substrate at a low temperature (<70°C) using cathode arc plasma deposition (CAPD) and the grey-relational Taguchi method was used to determine the processing parameters of ZnO thin films. The Taguchi method with an L9 orthogonal array, signal-to-noise (S/N...
சேமிக்கப்பட்டது:
| முதன்மை ஆசிரியர்கள்: | , , , |
|---|---|
| வடிவம்: | Artigo |
| மொழி: | Inglês |
| வெளியிடப்பட்டது: |
Wiley
2014-01-01
|
| தொடர்: | Advances in Materials Science and Engineering |
| ஆன்லைன் அணுகல்: | http://dx.doi.org/10.1155/2014/187416 |
| குறிச்சொற்கள்: |
டாக்ஸ் இல்லை, இந்த பதிவுக்கு குறிச்சொல் சேர்க்கும் முதல் நபராக இருங்கள்!
|