Mitigation of Electro Magnetic Interference by Using C-Shaped Composite Cylindrical Device
The extremely low-frequency (ELF) and its corresponding electromagnetic field influences the yield of CMOS processes in the foundry, especially for high-end equipment such as scanning electron microscopy (SEM) systems, transmission electron microscopy (TEM) systems, focused ion beam (FIB) systems, a...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | , , , |
|---|---|
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
MDPI AG
2022-01-01
|
| মালা: | Applied Sciences |
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://www.mdpi.com/2076-3417/12/2/882 |
| ট্যাগগুলো: |
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|
