Multiphoton Absorption Simulation of Sapphire Substrate under the Action of Femtosecond Laser for Larger Density of Pattern-Related Process Windows

It is essential to develop pattern-related process windows on substrate surface for reducing the dislocation density of wide bandgap semiconductor film growth. For extremely high instantaneous intensity and excellent photon absorption rate, femtosecond lasers are currently being increasingly adopted...

முழு விளக்கம்

நூற்பட்டியல் விவரங்கள்

முதன்மை ஆசிரியர்கள்:	Xintian Cai, Chaoyue Ji, Changkai Li, Zhiqiang Tian, Xuan Wang, Cheng Lei, Sheng Liu
வடிவம்:	Artigo
மொழி:	Inglês
வெளியிடப்பட்டது:	MDPI AG 2021-12-01
தொடர்:	Micromachines
பொருள்கள்:	femtosecond laser sapphire multiphoton absorption transient nonlinearity
ஆன்லைன் அணுகல்:	https://www.mdpi.com/2072-666X/12/12/1571
குறிச்சொற்கள்:	குறிச்சொல்லை சேர்க்கவும் டாக்‌ஸ் இல்லை, இந்த பதிவுக்கு குறிச்சொல் சேர்க்கும் முதல் நபராக இருங்கள்!