PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS SILIKON MIKROKRISTAL TERHIDROGENASI DENGAN TEKNIK HWC-VHF-PECVD
<p><em>Telah dikembangkan teknik HWC-VHF-PECVD (</em>Hot Wire Cell Very High Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition<em>) untuk menumbuhkan lapisan tipis silikon mikrokristal terhidrogenasi (</em><em>m</em><em>c-Si:H). </em><em>Dari hasil penumbuhan lapisan tipis yang dilakukan, teknik H...
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| Κύριοι συγγραφείς: | , , , |
|---|---|
| Μορφή: | Artigo |
| Γλώσσα: | Inglês |
| Έκδοση: |
Diponegoro University
2012-02-01
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| Σειρά: | Reaktor |
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | http://ejournal.undip.ac.id/index.php/reaktor/article/view/1555 |
| Ετικέτες: |
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