The Evolution of Lithography: From Resolution Scaling to Manufacturing Constraints
Lithographic patterning continues to evolve under the dual pressure of ever-finer features and manufacturable, cost-effective integration. Beyond headline resolution, industrial adoption is increasingly determined by a small set of coupled metrics: throughput, overlay (registration), defectivity, an...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , |
|---|---|
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
MDPI AG
2026-02-01
|
| Loạt: | Micromachines |
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://www.mdpi.com/2072-666X/17/2/261 |
| Các nhãn: |
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|