Optimizing nanostructure deposition process for optical applications

Abstract In many physics and engineering applications requiring exceptional precision, the presence of highly reflective coatings with low thermal noise is of utmost significance. These applications include high‐resolution spectroscopy, optical atomic clocks, and investigations into fundamental phys...

முழு விளக்கம்

சேமிக்கப்பட்டது:

நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
முதன்மை ஆசிரியர்கள்:	Joshua Neilson, Veronica Granata, Ofelia Durante, Christopher Ausbeck, Timothy F. Bennett, Fabrizio Bobba, Marco Cannavacciuolo, Giovanni Carapella, Francesco Chiadini, Riccardo DeSalvo, Roberta De Simone, Cinzia Di Giorgio, Rosalba Fittipaldi, Vincenzo Fiumara, Brecken Larsen, Tugdual LeBohec, Seth Linker, Alberto Micco, Marina Mondin, Bhavna Nayak, Antonio Vecchione, Innocenzo M. Pinto, Vincenzo Pierro
வடிவம்:	Artigo
மொழி:	Inglês
வெளியிடப்பட்டது:	Wiley 2024-03-01
தொடர்:	Micro & Nano Letters
பொருள்கள்:	dielectric materials dielectric thin films electrodeposition nanostructured materials optical films quartz crystal microbalances
ஆன்லைன் அணுகல்:	https://doi.org/10.1049/mna2.12186
குறிச்சொற்கள்:	குறிச்சொல்லை சேர்க்கவும் டாக்‌ஸ் இல்லை, இந்த பதிவுக்கு குறிச்சொல் சேர்க்கும் முதல் நபராக இருங்கள்!

Optimizing nanostructure deposition process for optical applications

ஒத்த வளங்கள்