Comparative study between the electrochemical behavior of TiN, TiCxNy and CrN hard coatings by using microscopy and electrochemical techniques

Hard thin TiN, TiCxNy and CrN films deposited by Physical Vapor Deposition (PVD) techniques onto steel substrates were immersed in an aggressive environment and evaluated by Atomic Force Microscopy (AFM) and Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS). The mechanical and electrochemical behavior, a...

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Detalhes bibliográficos

Principais autores:	L.F. Senna, C.A. Achete, R.A. Simão, T. Hirsch
Formato:	Artigo
Idioma:	Inglês
Publicado em:	Associação Brasileira de Metalurgia e Materiais (ABM); Associação Brasileira de Cerâmica (ABC); Associação Brasileira de Polímeros (ABPol) 2001-01-01
coleção:	Materials Research
Assuntos:	atomic force microscopy (AFM) electrochemical impedance spectroscopy (EIS) hard coatings
Acesso em linha:	http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1516-14392001000200017
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