AFM-IR investigation of thin PECVD SiOx films on a polypropylene substrate in the surface-sensitive mode

Thin silicon oxide films deposited on a polypropylene substrate by plasma-enhanced chemical vapor deposition were investigated using atomic force microscopy-based infrared (AFM-IR) nanospectroscopy in contact and surface-sensitive mode. The focus of this work is the comparison of the different measu...

সম্পূর্ণ বিবরণ

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন

প্রধান লেখক:	Hendrik Müller, Hartmut Stadler, Teresa de los Arcos, Adrian Keller, Guido Grundmeier
বিন্যাস:	Artigo
ভাষা:	Inglês
প্রকাশিত:	Beilstein-Institut 2024-05-01
মালা:	Beilstein Journal of Nanotechnology
বিষয়গুলি:	afm-ir polypropylene surface-sensitive mode silicon oxide thin films xps
অনলাইন ব্যবহার করুন:	https://doi.org/10.3762/bjnano.15.51
ট্যাগগুলো:	ট্যাগ যুক্ত করুন কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!