Sudden Concept Drift Detection and Adaptation in Virtual Metrology for Semiconductor Manufacturing

Virtual metrology (VM) has emerged as a promising technology for semiconductor manufacturing; however, abrupt changes in production conditions can significantly degrade prediction accuracy. Therefore, detecting sudden concept drift becomes crucial. Micro Cluster Nearest Neighbor (MC-NN), a method th...

সম্পূর্ণ বিবরণ

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন

প্রধান লেখক:	Chi Li, Yu-Ming Hsieh
বিন্যাস:	Artigo
ভাষা:	Inglês
প্রকাশিত:	IEEE 2025-01-01
মালা:	IEEE Access
বিষয়গুলি:	Automatic virtual metrology (AVM) concept drift convolutional neural networks (CNN) model rebuilding scheme (MRS) micro cluster nearest neighbor (MC-NN)
অনলাইন ব্যবহার করুন:	https://ieeexplore.ieee.org/document/11142300/
ট্যাগগুলো:	ট্যাগ যুক্ত করুন কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!