Structural, Mechanical and Optical Properties of Plasma-chemical Si-C-N Films

An influence of the substrate temperature in the range of 40-400 °C on the properties of the Si-C-N films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique using hexamethyldisilazane is analyzed. Study of the structure, chemical bonding, surface morphology, mechanical properti...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Hlavní autoři:	A.O. Kozak, V.I. Ivashchenko, O.K. Porada, L.A. Ivashchenko, T.V. Tomila
Médium:	Artigo
Jazyk:	Inglês
Vydáno:	Sumy State University 2014-11-01
Edice:	Журнал нано- та електронної фізики
Témata:	PECVD Hexamethyldisilazane Si-C-N films FTIR Nanoindentatio
On-line přístup:	http://jnep.sumdu.edu.ua/download/numbers/2014/4/articles/jnep_2014_V6_04047.pdf
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!