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Correction: AFM-IR investigation of thin PECVD SiOx films on a polypropylene substrate in the surface-sensitive mode

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Bibliografische Detailangaben
Hauptverfasser: Hendrik Müller, Hartmut Stadler, Teresa de los Arcos, Adrian Keller, Guido Grundmeier
Format: Artigo
Sprache:Inglês
Veröffentlicht: Beilstein-Institut 2025-02-01
Schriftenreihe:Beilstein Journal of Nanotechnology
Schlagworte:
Online-Zugang:https://doi.org/10.3762/bjnano.16.19
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