UV-LIGA: From Development to Commercialization
A major breakthrough in UV-LIGA (Lithographie, Galvanoformung and Abformung) started with the use of epoxy-based EPON® SU-8 photoresist in the mid-1990s. Using this photoresist has enabled the fabrication of tall and high aspect ratio structures without the use of a very expensive synchrotron sourc...
Na minha lista:
| Principais autores: | , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado em: |
MDPI AG
2014-07-01
|
| coleção: | Micromachines |
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | http://www.mdpi.com/2072-666X/5/3/486 |
| Tags: |
Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!
|