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Ion Compensation-Assisted Photolithography Enables High-Resolution Electrolytes for Neuromorphic Transistors

Highlights Ion compensation–assisted photolithography (ICAP) combines UV-triggered dual crosslinking with a post-patterning ion replenishment step, enabling patterned electrolytes with a spatial resolution of 2 μm, a capacitance of 15.6 μF cm−2. ICAP-patterned electrolytes provide array-level ionic...

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Detalhes bibliográficos
Principais autores: Wenjing Zhang, Xiaoci Liang, Sixing Chen, Xiuquan Ma, Chen Chen, Songjia Han, Chuan Liu
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: SpringerOpen 2026-07-01
coleção:Nano-Micro Letters
Assuntos:
Acesso em linha:https://doi.org/10.1007/s40820-026-02288-4
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