بررسی عملکرد لایه دوتایی WN/W با ساختار نامنظم بعنوان لایه مانع نفوذ Cu در Si
لایه تنگستن/ نیترید تنگستن با ساختار نامنظم به روش تبخیرگرمایی روی زیرلایه اکسید سیلیکون/ سیلیکون انباشت شد. بررسی پایداری گرمایی این لایه دوتایی در دماهای مختلف از طریق پراش اشعه ایکس، میکروسکوپ الکترونی روبشی و پراب چهار نقطهای انجام شد. بر اساس نتایج پراش اشعه ایکس، تشکیل فاز سیلیسید مس در دمای...
Guardat en:
| Autors principals: | , |
|---|---|
| Format: | Artigo |
| Idioma: | Persa |
| Publicat: |
Ferdowsi University of Mashhad
2024-03-01
|
| Col·lecció: | نشریه مهندسی متالورژی و مواد |
| Matèries: | |
| Accés en línia: | https://jmme.um.ac.ir/article_44853_b8b6c2e1ff4b505376cdb2f2ba7558ad.pdf |
| Etiquetes: |
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
|