بررسی عملکرد لایه دوتایی WN/W با ساختار نامنظم بعنوان لایه مانع نفوذ Cu در Si
لایه تنگستن/ نیترید تنگستن با ساختار نامنظم به روش تبخیرگرمایی روی زیرلایه اکسید سیلیکون/ سیلیکون انباشت شد. بررسی پایداری گرمایی این لایه دوتایی در دماهای مختلف از طریق پراش اشعه ایکس، میکروسکوپ الکترونی روبشی و پراب چهار نقطهای انجام شد. بر اساس نتایج پراش اشعه ایکس، تشکیل فاز سیلیسید مس در دمای...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | , |
|---|---|
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Persa |
| প্রকাশিত: |
Ferdowsi University of Mashhad
2024-03-01
|
| মালা: | نشریه مهندسی متالورژی و مواد |
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://jmme.um.ac.ir/article_44853_b8b6c2e1ff4b505376cdb2f2ba7558ad.pdf |
| ট্যাগগুলো: |
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|