কিউআর কোড

Power Dissipation of an Inductively Coupled Plasma Torch under E Mode Dominated Regime

This paper focuses on the power dissipation of a plasma torch used for an optical surface fabrication process. The process utilizes an inductively coupled plasma (ICP) torch that is equipped with a De-Laval nozzle for the delivery of a highly collimated plasma jet. The plasma torch makes use of a se...

সম্পূর্ণ বিবরণ

সংরক্ষণ করুন:
প্রধান লেখক: Nan Yu, Renaud Jourdain, Mustapha Gourma, Fangda Xu, Adam Bennett, Fengzhou Fang
বিন্যাস: Artigo
ভাষা:Inglês
প্রকাশিত: MDPI AG 2021-07-01
মালা:Micromachines
বিষয়গুলি:
heat transfer
plasma processing
inductively coupled plasma
অনলাইন ব্যবহার করুন:https://www.mdpi.com/2072-666X/12/7/834
ট্যাগগুলো: ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!

অনুরূপ উপাদানগুলি