QR குறியீடு

Power Dissipation of an Inductively Coupled Plasma Torch under E Mode Dominated Regime

This paper focuses on the power dissipation of a plasma torch used for an optical surface fabrication process. The process utilizes an inductively coupled plasma (ICP) torch that is equipped with a De-Laval nozzle for the delivery of a highly collimated plasma jet. The plasma torch makes use of a se...

முழு விளக்கம்

சேமிக்கப்பட்டது:
முதன்மை ஆசிரியர்கள்: Nan Yu, Renaud Jourdain, Mustapha Gourma, Fangda Xu, Adam Bennett, Fengzhou Fang
வடிவம்: Artigo
மொழி:Inglês
வெளியிடப்பட்டது: MDPI AG 2021-07-01
தொடர்:Micromachines
பொருள்கள்:
heat transfer
plasma processing
inductively coupled plasma
ஆன்லைன் அணுகல்:https://www.mdpi.com/2072-666X/12/7/834
குறிச்சொற்கள்: குறிச்சொல்லை சேர்க்கவும்
டாக்‌ஸ் இல்லை, இந்த பதிவுக்கு குறிச்சொல் சேர்க்கும் முதல் நபராக இருங்கள்!

ஒத்த வளங்கள்