Deposición de películas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PACVD

Películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) fueron depositadas por la técnica de deposición química en fase vapor asistida por plasma, utilizando una fuente de corriente directa pulsada asimétrica (DC-pulsada PACVD). Las películas fueron crecidas sobre sustratos de silicio empleando met...

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Библиографические подробности

Опубликовано в::	Scientia Et Technica
Главные авторы:	César Orlando Vargas Barrera, Gil Capote Rodríguez, Jesús Manuel Gutiérrez Bernal
Формат:	Artigo
Язык:	Espanhol
Опубликовано:	Universidad Tecnológica de Pereira 2018
Предметы:	Ingeniería
Online-ссылка:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=84958001021 https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/ https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/html/ https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/84958001021.epub https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/movil
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