Doherty, J. L., Noyce, S. G., Cheng, Z., Abuzaid, H., & Franklin, A. D. (2020). Capping Layers to Improve the Electrical Stress Stability of MoS(2) Transistors. ACS Appl Mater Interfaces.
Trích dẫn kiểu ChicagoDoherty, James L., Steven G. Noyce, Zhihui Cheng, Hattan Abuzaid, và Aaron D. Franklin. "Capping Layers to Improve the Electrical Stress Stability of MoS(2) Transistors." ACS Appl Mater Interfaces 2020.
Trích dẫn MLADoherty, James L., et al. "Capping Layers to Improve the Electrical Stress Stability of MoS(2) Transistors." ACS Appl Mater Interfaces 2020.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.