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Universal public mask wear during COVID‐19 pandemic: Rationale, design and acceptability

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Respirology
Main Authors: Liu, Christopher, Diab, Rawya, Naveed, Hasan, Leung, Victor
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: John Wiley & Sons, Ltd 2020
Assuntos:
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7361830/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/32779805
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1111/resp.13892
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