Self-Assembled Nanofeatures in Complex Three-Dimensional Topographies via Nanoimprint and Block Copolymer Lithography Methods

[Image: see text] Achieving ultrasmall dimensions of materials and retaining high throughput are critical fabrication considerations for nanotechnology use. This article demonstrates an integrated approach for developing isolated sub-20 nm silicon oxide features through combined “top-down” and “bott...

תיאור מלא

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
הוצא לאור ב:ACS Omega
Main Authors: Cummins, Cian, Borah, Dipu, Rasappa, Sozaraj, Senthamaraikannan, Ramsankar, Simao, Claudia, Francone, Achille, Kehagias, Nikolaos, Sotomayor-Torres, Clivia M., Morris, Michael A.
פורמט: Artigo
שפה:Inglês
יצא לאור: American Chemical Society 2017
גישה מקוונת:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6641768/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31457733
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acsomega.7b00781
תגים: הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!

פריטים דומים