Lin, Y., & Dai, C. (2018). Micro Magnetic Field Sensors Manufactured Using a Standard 0.18-μm CMOS Process. Micromachines (Basel).
Citação norma ChicagoLin, Yen-Nan, and Ching-Liang Dai. "Micro Magnetic Field Sensors Manufactured Using a Standard 0.18-μm CMOS Process." Micromachines (Basel) 2018.
Citação norma MLALin, Yen-Nan, and Ching-Liang Dai. "Micro Magnetic Field Sensors Manufactured Using a Standard 0.18-μm CMOS Process." Micromachines (Basel) 2018.
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