Su, Q., Ding, H., Price, L., Shao, L., Hinks, J. A., Greaves, G., . . . Nastasi, M. (2018). Rapid and damage-free outgassing of implanted helium from amorphous silicon oxycarbide. Sci Rep.
Citação norma ChicagoSu, Qing, Hepeng Ding, Lloyd Price, Lin Shao, Jonathan A. Hinks, Graeme Greaves, Stephen E. Donnelly, Michael J. Demkowicz, and Michael Nastasi. "Rapid and Damage-free Outgassing of Implanted Helium From Amorphous Silicon Oxycarbide." Sci Rep 2018.
Citação norma MLASu, Qing, et al. "Rapid and Damage-free Outgassing of Implanted Helium From Amorphous Silicon Oxycarbide." Sci Rep 2018.
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