Josell, D., & Moffat, T. (2016). Superconformal Bottom-Up Nickel Deposition in High Aspect Ratio Through Silicon Vias. ECS Trans.
Styl ChicagoJosell, D., a T.P Moffat. "Superconformal Bottom-Up Nickel Deposition in High Aspect Ratio Through Silicon Vias." ECS Trans 2016.
Citace podle MLAJosell, D., a T.P Moffat. "Superconformal Bottom-Up Nickel Deposition in High Aspect Ratio Through Silicon Vias." ECS Trans 2016.
Upozornění: Tyto citace jsou generovány automaticky. Nemusí být zcela správně podle citačních pravidel..