Editorial: Fitting Psychometric Models: Issues and New Developments

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Dettagli Bibliografici
Pubblicato in:Front Psychol
Autore principale: Sheng, Yanyan
Natura: Artigo
Lingua:Inglês
Pubblicazione: Frontiers Media S.A. 2017
Soggetti:
Psychology
Accesso online:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5447066/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/28611708
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3389/fpsyg.2017.00856
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