تحميل...
Atomic Layer Deposition for Coating of High Aspect Ratio TiO(2) Nanotube Layers
[Image: see text] We present an optimized approach for the deposition of Al(2)O(3) (as a model secondary material) coating into high aspect ratio (≈180) anodic TiO(2) nanotube layers using the atomic layer deposition (ALD) process. In order to study the influence of the diffusion of the Al(2)O(3) pr...
محفوظ في:
| الحاوية / القاعدة: | Langmuir |
|---|---|
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , , , , |
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
American
Chemical Society
2016
|
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5072108/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27643411 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acs.langmuir.6b03119 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|