Self-Aligned Colloidal Lithography for Controllable and Tuneable Plasmonic Nanogaps

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Dettagli Bibliografici
Pubblicato in:Small
Autori principali: Ding, Tao, Herrmann, Lars O, de Nijs, Bart, Benz, Felix, Baumberg, Jeremy J
Natura: Artigo
Lingua:Inglês
Pubblicazione: BlackWell Publishing Ltd 2015
Soggetti:
Communications
Accesso online:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4515099/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/25505000
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1002/smll.201402639
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