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Fluctuation of the number of particles deposited on a flat surface by a random sequential adsorption mechanism.

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Proc Natl Acad Sci U S A
Main Authors: Senger, B, Schaaf, P, Voegel, J C, Wojtaszczyk, P, Reiss, H
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: National Academy of Sciences 1994
Assuntos:
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.govhttps://pmc.ncbi.nlm.nih.gov/articles/PMC44951/
https://ncbi.nlm.nih.govhttps://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/11607496/
https://ncbi.nlm.nih.govhttps://doi.org/10.1073/pnas.91.21.10029
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