تحميل...
Surface properties and biocompatibility of nanostructured TiO(2) film deposited by RF magnetron sputtering
Nanostructured TiO(2) films are deposited on a silicon substrate using 150-W power from the RF magnetron sputtering at working pressures of 3 to 5 Pa, with no substrate bias, and at 3 Pa with a substrate bias of −50 V. X-ray diffraction (XRD) analysis reveals that TiO(2) films deposited on unbiased...
محفوظ في:
| الحاوية / القاعدة: | Nanoscale Res Lett |
|---|---|
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , |
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
Springer US
2015
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4385009/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/25852353 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/s11671-015-0732-7 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|