Φορτώνει......
Surface properties and biocompatibility of nanostructured TiO(2) film deposited by RF magnetron sputtering
Nanostructured TiO(2) films are deposited on a silicon substrate using 150-W power from the RF magnetron sputtering at working pressures of 3 to 5 Pa, with no substrate bias, and at 3 Pa with a substrate bias of −50 V. X-ray diffraction (XRD) analysis reveals that TiO(2) films deposited on unbiased...
Αποθηκεύτηκε σε:
| Τόπος έκδοσης: | Nanoscale Res Lett |
|---|---|
| Κύριοι συγγραφείς: | , , , , |
| Μορφή: | Artigo |
| Γλώσσα: | Inglês |
| Έκδοση: |
Springer US
2015
|
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4385009/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/25852353 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/s11671-015-0732-7 |
| Ετικέτες: |
Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
|