Direct fabrication of graphene on SiO(2) enabled by thin film stress engineering

We demonstrate direct production of graphene on SiO(2) by CVD growth of graphene at the interface between a Ni film and the SiO(2) substrate, followed by dry mechanical delamination of the Ni using adhesive tape. This result is enabled by understanding of the competition between stress evolution and...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: McNerny, Daniel Q., Viswanath, B., Copic, Davor, Laye, Fabrice R., Prohoda, Christophor, Brieland-Shoultz, Anna C., Polsen, Erik S., Dee, Nicholas T., Veerasamy, Vijayen S., Hart, A. John
Định dạng: Artigo
Ngôn ngữ:Inglês
Được phát hành: Nature Publishing Group 2014
Những chủ đề:
Article
Truy cập trực tuyến:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4031480/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/24854632
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep05049
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!

Những quyển sách tương tự