Capillary flow in sacrificially etched nanochannels

Planar nanochannels are fabricated using sacrificial etching technology with sacrificial cores consisting of aluminum, chromium, and germanium, with heights ranging from 18 to 98 nm. Transient filling via capillary action is compared against the Washburn equation [E. W. Washburn, Phys. Rev. 17, 273...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Hamblin, Mark N., Hawkins, Aaron R., Murray, Dallin, Maynes, Daniel, Lee, Milton L., Woolley, Adam T., Tolley, H. Dennis
Định dạng: Artigo
Ngôn ngữ:Inglês
Được phát hành: American Institute of Physics 2011
Những chủ đề:
Brief Communications
Truy cập trực tuyến:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3138793/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/21772934
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1063/1.3602858
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!

Những quyển sách tương tự