Microstructural Characterization and Formation Mechanism of Nitrided Layers on Aluminum Substrates by Thermal Plasma Nitriding

Nitrided layers on 6082 aluminum alloy substrates and 1060 aluminum substrates are formed at atmospheric pressure using thermal nitrogen plasma, which only takes seconds to form a millimeter-level layer. The nitrided layers are composed of aluminum nitride (AlN) and aluminum solid solution phases. M...

Mô tả đầy đủ

Chi tiết về thư mục

Những tác giả chính:	Xin Li, Weida Xin, Xiaoyi Zheng, Zhen’an Ren, Daqian Sun, Wanli Lu
Định dạng:	Artigo
Ngôn ngữ:	Inglês
Được phát hành:	MDPI AG 2019-05-01
Loạt:	Metals
Những chủ đề:	thermal nitrogen plasma aluminum nitride formation mechanism nitrided layer mechanical properties
Truy cập trực tuyến:	https://www.mdpi.com/2075-4701/9/5/523
Các nhãn:	Thêm thẻ Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!