Semi-insulating GaAs surface modifications and their influence in the response of THz devices
In this work, we use the Metal-Assisted Chemical Etching (MACE) technique together with an NH3 plasma treatment using a Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (RPECVD) equipment to modify the surface of semi-insulating GaAs (SI-GaAs) substrates. Using our modified SI-GaAs, we fabricate pho...
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| Principais autores: | , , , , , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado em: |
Elsevier
2021-05-01
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| coleção: | Results in Physics |
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2211379721002527 |
| Tags: |
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