kod QR

First-Principles Study of Topological Nodal Line Semimetal I229-Ge<sub>48</sub> via Cluster Assembly

Group IV element-based topological semimetals (TSMs) are pivotal for next-generation quantum devices due to their ultra-high carrier mobility and low-energy consumption. However, germanium (Ge)-based TSMs remain underexplored despite their compatibility with existing semiconductor technologies. Here...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Liwei Liu, Xin Wang, Nan Wang, Yaru Chen, Shumin Wang, Caizhi Hua, Tielei Song, Zhifeng Liu, Xin Cui
Format: Artigo
Język:Inglês
Wydane: MDPI AG 2025-07-01
Seria:Nanomaterials
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://www.mdpi.com/2079-4991/15/14/1109
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!