kod QR

An Antireflective Nanostructure Array Fabricated by Nanosilver Colloidal Lithography on a Silicon Substrate

<p>Abstract</p> <p>An alternative method is presented for fabricating an antireflective nanostructure array using nanosilver colloidal lithography. Spin coating was used to produce the multilayered silver nanoparticles, which grew by self-assembly and were transformed into randomly distributed nanos...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Park Seong-Je, Lee Soon-Won, Lee Ki-Joong, Lee Ji-Hye, Kim Ki-Don, Jeong Jun-Ho, Choi Jun-Hyuk
Format: Artigo
Język:Inglês
Wydane: SpringerOpen 2010-01-01
Seria:Nanoscale Research Letters
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:http://dx.doi.org/10.1007/s11671-010-9678-y
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!