QR kód

Development of n-Type, Passivating Nanocrystalline Silicon Oxide Films via Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

Nanocrystalline silicon oxide (nc-SiOx:H) is a multipurpose material with varied applications in solar cells as a transparent front contact, intermediate reflector, back reflector layer, and even tunnel layer for passivating contacts, owing to the easy tailoring of its optical properties. In this wo...

Celý popis

Uloženo v:
Hlavní autoři: Gurleen Kaur, Antonio J. Olivares, Pere Roca i Cabarrocas
Médium: Artigo
Jazyk:Inglês
Vydáno: MDPI AG 2024-03-01
Edice:Solar
Témata:
nanocrystalline silicon oxide
nc-SiOx:H
n-type
surface passivation
amorphous silicon
PECVD
On-line přístup:https://www.mdpi.com/2673-9941/4/1/7
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

Podobné jednotky