荧光淬灭法研究黑豆凝集素Ⅰ微环境与构象的关系
用KI、CsCl和丙烯酰胺对黑豆（Glycine max var.）凝集素`（GML`）进行内源荧光淬灭研究.天然黑豆凝集素`在280 nm波长激发下显示λ<sub>max</sub>为339 nm的内源荧光发射光谱,表明凝集素荧光生色基团位于相对疏水的环境中;3种淬灭剂对GML `的荧光淬灭属于动态淬灭机制.GML I分子的生色基团Trp残基对中性淬灭剂丙烯酰胺的可接近程度为100%,而对阴离子淬灭剂KI的可接近程度为81.6%,对阳离子淬灭剂CsCl的可接近程度为52.8%,表明GML `中大部分Trp残基位于分子表面或近表面,只有小部分包埋于分子内部的疏水性环境中,并且Trp残基周围所处...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | , , , |
|---|---|
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
Editorial Department of Journal of Sichuan University (Natural Science Edition)
2012-01-01
|
| মালা: | 四川大学学报. 自然科学版 |
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | http://science.scu.edu.cn/thesisDetails?columnId=156486002&Fpath=home&index=0 |
| ট্যাগগুলো: |
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|