RESISTIVIDAD ELÉCTRICA RESIDUAL EN PÉLICULAS DELGADAS
Ha sido bien establecido que la resistividad de las películas, delgadas depende fuertemente de su estructura. Para entender mejor dicha influencia se comparó la resistividad residual (0°K) de películas obtenidas por evaporación en vacío y por ion-plating. Las películas obtenidas por esta última técn...
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| Principais autores: | , |
|---|---|
| פורמט: | Artigo |
| שפה: | Espanhol |
| יצא לאור: |
CEILAP-UNIDEF-CONICET-CITEDEF
2013-08-01
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| סדרה: | Anales (Asociación Física Argentina) |
| גישה מקוונת: | https://anales.fisica.org.ar/index.php/analesafa/article/view/1360 |
| תגים: |
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