Effect of grain size on defect annealing in displacement-damaged tungsten

Pulsed laser deposition and subsequent thermal treatment were used to create compact tungsten layers with various grain sizes (1μm, 100 nm, and 10 nm). The layers were self-damaged at room temperature up to 0.23 dpa using 20.3 MeV W ions and annealed in vacuum at 473 K or 673 K prior to exposure to...

Szczegółowa specyfikacja

Opis bibliograficzny

Główni autorzy:	Anže Založnik, David Dellasega, Gabriele Alberti, Matteo Passoni, Thomas Schwarz-Selinger, Marlene I. Patino, Michael J. Simmonds, Matthew J. Baldwin, George R. Tynan
Format:	Artigo
Język:	Inglês
Wydane:	Elsevier 2024-06-01
Seria:	Nuclear Materials and Energy
Hasła przedmiotowe:	Tungsten Annealing Deuterium Retention Nanograin Grain boundary
Dostęp online:	http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2352179124000978
Etykiety:	Dodaj etykietę Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!