Effect of temperature and deposition power on microstructure and properties of magnetron sputtered thin AlN coatings

This paper demonstrates the influence of deposition parameters (temperature, power and time) and stoichiometric composition of thin aluminum nitride (AlN) coatings, the thickness of which varied from 320 to 1100[Formula: see text]nm deposited by DC reactive magnetron sputtering on their microstructu...

Ամբողջական նկարագրություն

Մատենագիտական մանրամասներ

Հիմնական հեղինակներ:	Vasilina Lapitskaya, Andrey Nikolaev, Anastasiya Khabarava, Evgeniy Sadyrin, Sergei Aizikovich, Anaid Azoyan, Dmitry Kotov, Sergei Chizhik, Guangbin Yu, Weifu Sun
Ձևաչափ:	Artigo
Լեզու:	Inglês
Հրապարակվել է:	World Scientific Publishing 2025-08-01
Շարք:	Journal of Advanced Dielectrics
Խորագրեր:	AlN coating magnetron sputtering microstructure mechanical and microtribological properties specific electrical resistivity
Առցանց հասանելիություն:	https://www.worldscientific.com/doi/10.1142/S2010135X25400041
Ցուցիչներ:	Ավելացրեք ցուցիչ Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!