Competition between one- and two-photon processes in Ar irradiated by the Shanghai soft x-ray free electron laser

Shanghai Soft X-ray Free Electron Laser facility has entered user operation, delivering soft x-ray pulses in self-amplified spontaneous emission mode with an intensity of the peak fluence of ∼1.0×10^{−2}µJ/µm^{2} at a focus point. With these conditions, at a photon energy of 260 eV, we expect sequen...

முழு விளக்கம்

நூற்பட்டியல் விவரங்கள்

முதன்மை ஆசிரியர்கள்:	Ruichao Dong, Jie Yan, Jinze Feng, Mingjie Zhang, Yikang Zhang, Yuliang Guo, Ahai Chen, Zhenjie Shen, Yuneng Shen, Zhen Wang, Kaiqing Zhang, Xuan Li, Zheng Qi, Zhangfeng Gao, Zenggong Jiang, Jiaming Jiang, Bin Li, Chao Feng, Bo Liu, Huaidong Jiang, Zhi Liu, Yajiang Hao, Kiyoshi Ueda, Cheng Gao, Xincheng Wang, Yuhai Jiang
வடிவம்:	Artigo
மொழி:	Inglês
வெளியிடப்பட்டது:	American Physical Society 2025-08-01
தொடர்:	Physical Review Research
ஆன்லைன் அணுகல்:	http://doi.org/10.1103/j4rx-55m2
குறிச்சொற்கள்:	குறிச்சொல்லை சேர்க்கவும் டாக்‌ஸ் இல்லை, இந்த பதிவுக்கு குறிச்சொல் சேர்க்கும் முதல் நபராக இருங்கள்!