Correction: Modelling focused electron beam induced deposition beyond Langmuir adsorption
Na minha lista:
| Principais autores: | , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado em: |
Beilstein-Institut
2017-12-01
|
| coleção: | Beilstein Journal of Nanotechnology |
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://doi.org/10.3762/bjnano.8.259 |
| Tags: |
Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!
|